光化學催化氧化技術是在光化學氧化的基礎上發(fā)展起來的，與光化學法相比，有更強的氧化能力，可使有機污染物更徹底地降解。光化學催化氧化是在有催化劑的條件下的光化學降解，氧化劑在光的輻射下產(chǎn)生氧化能力較強的自由基。

催化劑有TiO2、ZnO、WO3、CdS、ZnS、SnO2和Fe3O4等。分為均相和非均相兩種類型，均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質，通過光助-Fenton反應產(chǎn)生羥基自由基使污染物得到降解；非均相催化降解是在污染體系中投入一定量的光敏半導體材料，如TiO2、ZnO等，同時結合光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子—空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子—空穴作用，產(chǎn)生˙OH等氧化能力極強的自由基。TiO2光催化氧化技術在氧化降解水中有機污染物，特別是難降解有機污染物時有明顯的優(yōu)勢。