一、引言

印染廢水具有色度深、成分復雜、可生化性差等特點，傳統芬頓氧化、臭氧氧化等方法雖有一定效果，但存在反應慢、能耗高等問題。納米氣泡氧化（Nano-bubble Oxidation）通過產生大量高活性微小氣泡，增強氧化劑與污染物接觸面積，顯著提升脫色與COD去除效率。

二、技術原理與氧化機制

納米氣泡直徑小于1 μm，具有以下特性：

表面電荷穩定，不易破裂；

比表面積大，傳質效率高；

可攜帶O?、ClO?等氧化劑深入廢水內部；

在水中停留時間長，提高反應概率。

其作用機制包括：

氣泡破裂釋放能量，促進·OH生成；

氧化劑與污染物充分接觸，加速反應；

改善傳質邊界層，提高氧化效率。

三、工藝流程

調節pH至酸性；

注入臭氧或過氧化氫；

生成納米氣泡并注入反應池；

沉淀分離絮體；

出水進入后續處理或直接回用。

四、關鍵操作參數

氣泡尺寸：控制在100–500 nm之間；

氧化劑種類與濃度：O? 20–80 mg/L，H?O? 0.5–2 g/L；

pH值：酸性條件更利于自由基生成；

處理時間：通常10–30分鐘即可完成高效去除。

五、應用實例分析

某印染廠采用納米氣泡+臭氧系統處理分散藍79廢水，在最佳條件下（pH=3.0、O? 60 mg/L、處理時間20分鐘），色度去除率達98%，COD去除率為87%，出水可直接進入生化系統。

六、未來發展方向

探索非均相催化劑替代傳統試劑；

結合UV或等離子體構建聯合氧化體系；

開發智能化控制系統實現精準投加；

推動工程化設備研發與節能優化；

構建模塊化裝置便于中小企業部署。