一、引言

制藥廢水中含有大量難降解有機污染物，具有毒性高、可生化性差等特點。傳統處理方法難以徹底去除，而可見光響應型g-C?N?/石墨烯復合材料因其優異的光催化活性與穩定性，成為近年來高級氧化領域的研究熱點。

二、材料制備與表征

該材料通過溶膠-凝膠法或原位還原法制備，常見步驟包括：

g-C?N?前驅體制備（如尿素熱解）；

石墨烯氧化物（GO）合成；

材料復合與煅燒；

表征手段（SEM、XRD、FTIR、UV-Vis等）。

三、光催化機理與影響因素

其核心機制包括：

可見光激發產生電子-空穴對；

石墨烯促進電子遷移，抑制復合；

自由基鏈式反應促進礦化；

吸附-催化雙重作用提升去除效率。

主要影響因素包括：

光照強度與波長；

催化劑投加量；

pH值；

初始污染物濃度；

共存離子干擾。

四、應用實例分析

某制藥企業采用g-C?N?/石墨烯材料處理含磺胺類抗生素廢水，在可見光照射下COD去除率達92%，TOC去除率為88%，材料可重復使用8次以上，再生后仍保持較高活性。

五、經濟性評估與工業化前景

該類材料成本適中、環境友好，適用于：

制藥廢水深度處理；

醫藥中間體廢水預處理；

中小型污水處理站。

未來可通過規模化制備工藝開發提升其市場競爭力。

六、未來發展方向

開發負載型催化劑提升分散性；

探索固定床光催化反應器用于連續運行；

結合AI模型預測最佳運行條件；

推動該材料在市政污水處理中的應用；

構建吸附-催化一體化多功能材料體系。