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    光催化膜反應(yīng)器在印染廢水深度處理中的應(yīng)用進(jìn)展

    一、引言

    印染廢水因含有復(fù)雜芳香族結(jié)構(gòu)染料,具有色度深、可生化性差、毒性高等特點(diǎn)。傳統(tǒng)處理方法難以徹底去除發(fā)色基團(tuán),而光催化膜反應(yīng)器(Photocatalytic Membrane Reactor, PMR)通過(guò)將光催化氧化與膜分離技術(shù)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了高效脫色與礦化,成為近年來(lái)的研究熱點(diǎn)。


    二、技術(shù)原理與反應(yīng)機(jī)制

    PMR系統(tǒng)主要由以下部分組成:

    光催化涂層膜:通常以TiO?、g-C?N?或其復(fù)合物為催化劑;

    紫外光源或可見光激發(fā)裝置;

    錯(cuò)流過(guò)濾系統(tǒng),提升傳質(zhì)效率;

    自清潔功能:光催化產(chǎn)生的自由基可分解膜表面污染物。

    其核心機(jī)制包括:

    光激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對(duì);

    活性物種(·OH、h?)攻擊染料分子;

    膜孔截留大分子中間體;

    實(shí)現(xiàn)同步氧化與分離。


    三、系統(tǒng)構(gòu)型與發(fā)展現(xiàn)狀

    目前主流構(gòu)型包括:

    平板式光催化膜組件;

    中空纖維膜涂覆TiO?層;

    可見光響應(yīng)型復(fù)合膜材料;

    多級(jí)串聯(lián)模塊用于連續(xù)運(yùn)行。


    四、關(guān)鍵參數(shù)優(yōu)化

    影響PMR性能的主要因素包括:

    光照強(qiáng)度與波長(zhǎng);

    膜通量與錯(cuò)流速率;

    催化劑負(fù)載方式與厚度;

    pH值與電解質(zhì)種類;

    反應(yīng)時(shí)間與進(jìn)水濃度。


    五、實(shí)際應(yīng)用案例

    某紡織廠采用g-C?N?/TiO?復(fù)合膜反應(yīng)器處理活性艷紅X-3B廢水,在紫外照射下色度去除率達(dá)99%,COD去除率為93%,膜污染速率降低40%,系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)行穩(wěn)定,出水可回用于漂洗工序。


    六、未來(lái)發(fā)展方向

    開發(fā)高效可見光響應(yīng)型光催化材料;

    探索太陽(yáng)能驅(qū)動(dòng)的光催化膜系統(tǒng);

    構(gòu)建模塊化設(shè)備便于中小企業(yè)部署;

    推動(dòng)與MBR、RO等工藝集成;

    結(jié)合AI模型預(yù)測(cè)最佳運(yùn)行參數(shù)。

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